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El SURF AiR program invita a artistas a crear obra inspirada en la Sanford Underground Research Facility.
El SURF AiR program ofrece a artistas la oportunidad de crear obra inspirada en la Sanford Underground Research Facility (SURF), situada en las hermosas Black Hills de Dakota del Sur. La ubicación y la historia únicas de SURF la convierten en un lugar ideal para el trabajo creativo. A 4850 pies de profundidad, SURF es el laboratorio subterráneo más profundo de Estados Unidos y se encuentra en la antigua mina de oro Homestake. La instalación alberga experimentos de física, biología, geología e ingeniería. El SURF AiR program aprovecha las características únicas de SURF y de los experimentos científicos que acoge para generar conciencia y fomentar el trabajo interdisciplinario. Esta residencia sigue el modelo de diversos programas ofrecidos por organismos públicos, la ciencia y la industria, entre ellos el National Park Service, el CERN y Fermilab.
El SURF AiR incluye una estancia de cuatro semanas en el lugar durante el verano y una visita de una semana en otoño para la instalación artística y una conferencia como invitado. Las fechas de las visitas se determinarán según la agenda de cada artista en coordinación con SURF (ten en cuenta que las fechas disponibles para la estancia de verano son del 22 de mayo al 31 de julio y que la visita de otoño para la instalación y la conferencia está prevista para octubre).
Trabajar bajo tierra exige que la persona artista se sienta cómoda en espacios oscuros y cumpla todos los protocolos de seguridad. También debe poder caminar sobre superficies irregulares al menos una milla seguida. El desplazamiento bajo tierra implica un trayecto en ascensor a oscuras, así como afrontar condiciones húmedas y superficies resbaladizas. Es obligatorio contar con un guía, que acompañará a la persona artista en todo momento durante su estancia en SURF.
Antes del inicio de la residencia se acordarán un calendario y las expectativas. Se redactará un MOU que firmarán la persona artista y SURF.
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